LLO(Laser lift-off) system
レーザーリフトオフ装置

概要

・フレキシブルディスプレイ用に設計された

　Laser Lift-Off systems。

・Carrier Glass(キャリアガラス)はレーザー、

　光学テクノロジー、プロセスモジュールを

　使用し、基板から分離させ薄膜デバイスを

　作ります。

・フレキシブルディスプレイの製造プロセスに

　おける中核的な装置です。

​特徴

・ガラス基板上に形成されたプラスチック材料で

　あるPI(ポリイミド)を分離するエキシマレーザー

　(Excimer Laser)を使用。

・AMOLED及びフレキシブルOLEDディスプレイ

　プロセスで使用される。

・Annealing 装置はAMOLED工程でa-Siをp-Siに

　結晶化するために使用。

・フレキシブルOLED工程でガラス基板上に膜を

　形成するためにPI(ポリイミド)でコーティングす

　ることによってガラス基板を分離するために

　使用される。

仕様

・レーザータイプ：Excimer Laser

・ステージタイプ：Single or Stack Plane

・レーザーパルス：1J,2J

・レーザー波長：308nm(XeCl)

・レーザー反復率：600Hz

・ソフトウェア：Easy Cluster

※詳細構造及び仕様に関しては、ご相談に応じます。